“电子密度”的版本间差异

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*The electron density serves as a robust proxy for the hydrogen gas density in H ii regions and can affect the strength of collisionally-excited lines.
*The electron density serves as a robust proxy for the hydrogen gas density in H ii regions and can affect the strength of collisionally-excited lines.
* 中性气体中的电子主要来自于C,C的电离势小于13.6,可以正比于[C/H], <math> n_e \propto 2\times 10^{-4}n_H </math>


*在完全电离区复合线正比于电子密度平方,因此复合线的强度可以估算电子密度
*在完全电离区复合线正比于电子密度平方,因此复合线的强度可以估算电子密度
*在碰撞激发的发射线中,当电子密度低的时候,碰撞退激发无效,辐射退激发和碰撞激发平衡,正比于电子密度的平方。当电子密度高的时候,碰撞退激发很有效,辐射只是由自发辐射决定,因此只是正比于电子密度。
*在碰撞激发的发射线中,当电子密度低的时候,碰撞退激发无效,辐射退激发和碰撞激发平衡,正比于电子密度的平方。当电子密度高的时候,碰撞退激发很有效,辐射只是由自发辐射决定,因此只是正比于电子密度。
*[SII] 6716,6731Å双线,[OII] 3726,3729Å双线的线比可以来推算电子密度。因为这两条线的临界密度差异比较大,高能级的很容易被碰撞激发(临近的双线能级),所以临界密度比较低。
*[SII] 6716,6731Å[[双线]],[OII] 3726,3729Å双线的线比可以来推算电子密度。因为这两条线的临界密度差异比较大,高能级的很容易被碰撞激发(临近的双线能级),所以临界密度比较低。见图
[[文件:Doubleline.jpg|缩略图]]
[[文件:Doubleline.jpg|缩略图]]

*HII区,红外波段的金属离子的精细结构线,由于hv<<KT,因此两个能级上的离子数目与温度无关,只是和密度有关。
*HII区,红外波段的金属离子的精细结构线,由于hv<<KT,因此两个能级上的离子数目与温度无关,只是和密度有关。(就是这时候主要是碰撞激发的)
:*比如 CII158um

2024年3月15日 (五) 14:15的最新版本

  • The electron density serves as a robust proxy for the hydrogen gas density in H ii regions and can affect the strength of collisionally-excited lines.
  • 中性气体中的电子主要来自于C,C的电离势小于13.6,可以正比于[C/H],
  • 在完全电离区复合线正比于电子密度平方,因此复合线的强度可以估算电子密度
  • 在碰撞激发的发射线中,当电子密度低的时候,碰撞退激发无效,辐射退激发和碰撞激发平衡,正比于电子密度的平方。当电子密度高的时候,碰撞退激发很有效,辐射只是由自发辐射决定,因此只是正比于电子密度。
  • [SII] 6716,6731Å双线,[OII] 3726,3729Å双线的线比可以来推算电子密度。因为这两条线的临界密度差异比较大,高能级的很容易被碰撞激发(临近的双线能级),所以临界密度比较低。见图
Doubleline.jpg
  • HII区,红外波段的金属离子的精细结构线,由于hv<<KT,因此两个能级上的离子数目与温度无关,只是和密度有关。(就是这时候主要是碰撞激发的)
  • 比如 CII158um